汇创达300909 深圳元器件板块
汇创达：微纳米热压印工艺目前主要用于背光模组产品
汇创达：光刻机纳米压印独特技术供应上海微电子独家，押中清华大学SSMB-EUV核心部件供应商+纳米压印双料驱动 华为爆量订单打开盈利空间
参股广州金磁海纳，国产高端纳米晶超薄带替代明星公司，是粒子加速器的重要部件
触发背景：2023年9月14日盘后，网传纳米压印光刻技术为光刻技术中离产业最近的。
日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。
概念解释：纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够替代传统且复杂的光学光刻技术。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。
降低成本：佳能的研究显示，其设备在每小时80片晶圆的吞吐量和80片晶圆的掩模寿命下，纳米压印光刻相对ArF光刻工艺可降低28%的成本，随着吞吐量增加至每小时90片，掩模寿命超过300批次，成本可降低52%。此外，通过改用大场掩模来减少每片晶圆的拍摄次数，还可进一步降低成本。
清华SSMB-EUV技术是一种新型的粒子加速器光源，全称为超导储存环自由电子激光极紫外（EUV）相干辐射技术。SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这一技术路线在周末得到杨振宁学生赵午教授的认可。
公司全资子公司云麦投资参股“深圳市福海中瑞创业投资合伙企业，该合伙公司持股广州金磁海纳新材料科技有限公司17.39%股权。
而金磁海纳是国内高端磁芯的黑马新星，在与华南理工大学的通力合作下，研制出具有自
ASML劲敌跳过EUV光刻机造5nm：或可绕过美国限制！
资料显示，纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理。简单来说，传统的光刻设备通过将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案，而纳米压印光刻造芯片则通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，就像印章盖在橡皮泥上，然后经过脱模就能够得到一颗芯片。
在佳能开发人员首藤真一看来，这种纳米压印设备是一种将创造未来的设备。未来，半导体会变得更精细，不仅会被封装在智能手机中，未来还会被用作贴纸，比如贴在人体皮肤上或隐形眼镜上。
