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华懋科技：四重曝光技术，主要材料是AF和掩膜版。能做到arf 光刻胶14纳米的，且已经量产的，只有华懋科技参股公司徐州博康，博康还是华为入股唯一的光刻胶公司
光刻胶+业绩增长+回购
1、公司投资徐州博康（持股23.99%）是国内少有能打通光刻胶上游材料的全产业链公司，其聚合与提纯工艺也是其核心竞争力之一。
2、2024年8月30日晚公告，公司营业收入9.69亿元，同比增长8.62%，营收创历史同期新高；净利润1.32亿元，同比增长71.87%，报告期内公司汽车被动安全业务实现持续增长。
3、截至2024年8月31日，公司累计回购股份 582.26万股，占总股本比例为1.79%，成交总金额1.23亿元。
4、公司已发展成为汽车被动安全领域的龙头企业，产品线覆盖汽车安全气囊布、安全气囊袋以及安全带等被动安全系统部件。安全气囊产品的新能源车终端客户主要包括比亚迪、国内外主流造车新势力及部分传统整车厂的新能源车型等。

美威胁加码制裁背景下，科技自主可控受关注，公司主营光引发剂和巯基化合物及其衍生物的研发、生产及销售，其中，部分光引发剂产品下游可应用于光刻胶等相关领域。


光引发剂+新材料
1、公司内蒙古基地募投项目主要的光引发剂品种包括TPO、184、1173、BDK等，部分光引发剂产品下游可应用于光刻胶等相关领域（2024年6月3日盘后异动公告，目前不生产光刻胶）。
2、公司主要从事光引发剂、巯基化合物及其衍生物等精细化工新材料的研产销（2024年6月3日盘后异动公告，光引发剂产品也不涉及半导体相关领域应用）。
3、公司向下游延伸拓展出以 907 为代表的包括 ITX、BMS、369等一系列的光引发剂产品，逐步成长为全球光引发剂和巯基化合物主要生产供应商之一。
4、专注于含硫磷为主的特种精细化工新材料和光固化新材料领域方向，致力于成为行业龙头供应商及应用系统方案提供商。

光刻胶清洗剂+环氧丙烷衍生品
1、2021年11月22日互动，公司一异丙醇胺可以用于电子化学品光刻胶清洗剂，也是近年来公司在国内市场重点拓展的应用领域之一。
2、2023年9月11日互动，公司会加大投入，在环氧丙烷一聚醚、醇胺及相关衍生物产业链上研发新技术新产品。
3、公司主要从事环氧丙烷衍生品，聚醚系列产品和异丙醇胺系列产品实现的销售收入占主营业务收入的比重占88％。公司环氧丙烷生产装置产能10万吨；公司硬泡组合聚醚年生产能力15万吨，硬泡组合聚醚市场主要是冰箱冷藏集装箱领域。
4、公司与TCL、中集、中远等国内外冰箱、冰柜、集装箱生产企业建立了长期战略合作关系。


本次华为7nm芯片，其中最核心的步骤为多重曝光，是绝对增量环节，后续有望成为新的科技分支接力光刻机行情，务必重视!

其中，光刻胶清洗剂作为重要耗材，随着多重曝光技术的推进，用量大幅增加!

重点关注#红宝丽，公司一异内醇胺可以用于电子化学品光刻胶清洗剂，是清洗剂上游必需品，有望深度收益于光刻胶多重曝光工艺。相较于其他光刻胶个股，滞涨严重，有较大的补涨空间


你好，请问公司的产品有应用到光刻胶上吗？

红 宝 丽[002165]·
谢谢关注。公司异丙醇胺产品是一种绿色环保的精细化工原料，除应用于电子清洗行业外，光刻胶在应用中的残留物是需要清洗掉的。


光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。


在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。

在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶

今年4月公司在互动平台称，作为中高端化工及电子材料一体化解决方案提供商，公司先后从韩国引进丙烯酸树脂、KISCO光引发剂、DKC光敏剂以及色浆等产品，主要应用于LCD-TFT正性光刻胶、芯片及半导体行业i/g/h线光刻胶等中高端市场。

11月6日，在第三届中国国际进口博览会上，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)全球副总裁、中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户均一视同仁，在法律法规框架下，都将全力支持。

　　ASML在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的DUV光刻机。据了解，该产品可生产7nm及以上制程芯片。沈波还表示，ASML在中国也建立了自己的培训中心，培养光刻行业人才，在深圳和北京成了两家技术开发中心，做计算光刻、量测等开发。

公司参股公司科华微电子是国内光刻胶龙头
高盟持有北京科华微电子3.7%的股份，北京科华二股东是南大光电，芯片光刻胶龙头，北京科华极有可能登录科创板，高盟也算是准影子股，投资芯片公司转型高科技是未来的方向，也许这才是众多机构来调研的真正原因吧，公告出来的也许只是掩人耳目的东西

北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。2017年，科华微电子获得SEMI全球光刻胶企业前十；2018年，获批“光刻胶国家地方联和工程研究中心”，并建有北京市发改委命名的“光刻胶北京市工程实验室”。其最小分辨率可达0.11um。通过与客户晶圆厂同样的检测设备配置，实现了上下游产品检测的无缝对接。

科华微电子在光刻胶成膜树脂结构、感光材料结构、光刻胶配方及生产工艺控制技术等方面取得了很大的成就，并在高端晶圆加工应用、先进封装应用、MINI LED、MICRO LED、分立器件应用等领域积累了丰富的系列产品和深厚的技术储备，是中芯国际、华润上华等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。

收购LG化学彩色光刻胶业务基本落地，电子材料平台进一步覆盖面板产业。全球LCD光刻胶市场约20亿美元，是光刻胶最大的单一应用市场，目前国内LCD面板出货量占全球接近50%，光刻胶市场规模约10亿美元，90%以上依赖进口。LCD用光刻胶包括正胶、彩色光刻胶和黑胶等，公司于2019年通过参股正胶供应商韩国Cotem10%实现光刻胶业务布局。LG化学作为全球LCD彩胶和OLED光刻胶主要供应商，拥有领先的技术和品牌知名度。通过此次收购，公司将同时掌握彩色光刻胶和正胶的技术、生产工艺，同时获得LG Display等全球主要面板显示企业客户资源。

公司依托在酚醛树脂行业的积累，积极向电子行业用酚醛树脂及可降解塑料等领域拓展。公司拟建设50 吨/年功能型树脂中试线装置，产品系属高端封装行业以及覆铜板行业树脂的主要树脂原料；同时，公司6 万吨/年橡胶助剂扩产项目规划有5000 吨/年电子级酚醛树脂。
随着半导体产业的转移和电子信息产业的发展，电工电子材料领域对酚醛树脂的需求量将以15%-20%的速度增长，其市场规模有望迎来更大幅度的提升。

公司正在推进开发印刷电路板柔性基板用等用途的紫外光型正型光刻胶

公司参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证

目前半导体光刻胶国产化率不足5%。随着国内晶圆厂产能扩大以及国家大基金二期的扶持，光刻胶国产化进程提速并迎发展契机。根据国内晶圆厂的建设速度和规划，预计2022年国内半导体光刻胶市场将是2019年的两倍，约55亿元。
公司子公司UP Chemical是全球领先的半导体材料供应商制造企业，公司向SK海力士、三星电子等提供逻辑芯片

公司1.8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life-off光刻胶，I/G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位

公司参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证

公司为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

光刻胶、氢氟酸与氟化聚酰亚胺分别是半导体光刻、半导体刻蚀、柔性OLED面板制造领域必不可少的三大关键材料。